，PVDF本身并不直接適合傳統光刻工藝。傳統光刻通常使用是光敏材料，如光刻膠〔photoresist〕，這些材料于受到特定波長光線照射后會有化學性質變化，從而實現圖形轉移。而PVDF作為一種非光敏性材料，不含這種特性。然而，通過改性或復合技術，可以使PVDF含一定光敏性，進而用途于光刻。
例如，可以通過于PVDF中引入光敏基團或者將其和光敏聚合物復合，生產出一種新型功能材料。這種改性后PVDF能夠于紫外光或其他光源作用下有交聯或降解反應，從而滿足光刻需求。另外，因為PVDF具有優良機械強度、化學穩固性，改性后PVDF于光刻過程中能夠提供更持久保護層，這對于高精度微細加工至關很大。
值得注意是，盡管PVDF經過改性后可以用于光刻，但于實際用途中仍需克服諸多挑戰，比如如何精確控制材料光敏性能、確保加工過程中均勻性、穩固性。隨著納米技術、功能材料研究連續深入，未來PVDF于光刻行業用途潛力巨大，特別是于柔性器件、生物醫學行業，其特殊性能優勢將得到更加充分發揮。
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